光刻机在半导体制造中起着至关重要的作用，用于将电路图案转移到硅片上。我国光刻机的发展取得了长足的进步。

　　近年来，中国在光刻机领域取得了显著的进展。一方面，国内企业不断提高光刻机的技术水平和性能，从最初的低端设备逐渐向中高端设备发展。例如，中国企业华大基因推出的自研光刻机已经达到了国际领先水平。

　　另一方面，中国政府也致力于推动光刻机产业的发展，支持本土企业加大研发投入和创新能力提升。国家发改委等部门发布的政策文件中，光刻机产业也被提及，并鼓励企业提升核心技术竞争力。

　　此外，中国还积极引进和合作国际光刻机厂商，加强技术交流和合作，提升国内光刻机产业整体水平。

　　综上所述，我国光刻机发展在技术提升、研发投入和政策支持等方面取得了积极进展。然而，在高端光刻机领域，国内企业仍面临一定的技术差距和市场竞争压力。未来，随着技术创新和产业升级的推动，我国光刻机产业有望取得更大突破和进步。